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SRM2134硅深度剖面標(biāo)準(zhǔn)中砷植入標(biāo)準(zhǔn)品NIST旨在用于通過二次離子質(zhì)譜 (SIMS) 分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量砷的二次離子響應(yīng)。

SRM 2135c Ni/Cr薄膜深度剖面標(biāo)準(zhǔn)品NIST主要用于校準(zhǔn)表面分析中的濺射深度標(biāo)度和腐蝕速率。

SRM2137硅中硼植入深度剖面濃度標(biāo)準(zhǔn)品NIST旨在用于通過二次離子質(zhì)譜 (SIMS) 分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量硼的二次離子響應(yīng)

SRM 2139 鋅鋁合金標(biāo)準(zhǔn)品(美國NIST)旨在用于通過二次離子質(zhì)譜 (SIMS) 分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量硼的二次離子響應(yīng)。

SRM 2141 尿素標(biāo)準(zhǔn)品(美國NIST)用于測(cè)定有機(jī)物中氮的微量化學(xué)程序的校準(zhǔn)和標(biāo)準(zhǔn)化。